半導體制造是精密科技的核心產業(yè)，但其生產過程中產生的廢氣具有污染性，若半導體廢氣處理不當將威脅生態(tài)環(huán)境與人體健康。本文從半導體廢氣來源分析切入，深入解讀治理必要性、主流處理工藝，并分享可迪爾在上海的半導體廢氣處理標桿案例，為行業(yè)提供可落地的解決方案。

一、半導體廢氣來源

半導體制造包含光刻、刻蝕、清洗等關鍵工序，廢氣主要產生于以下環(huán)節(jié)：

1. 光刻與顯影：使用丙酮、異丙醇等有機溶劑清洗晶圓，釋放VOCs。

2.化學氣相沉積（CVD）：反應尾氣中含硅烷、磷化氫等有毒氣體。

3.濕法刻蝕與清洗：氫氟酸、硫酸等酸堿溶液揮發(fā)形成硫酸霧、氟化氫等酸性廢氣。

4.離子注入與擴散：高溫工藝中可能產生氨氣、氯氣等有害氣體。

典型廢氣成分：

有機廢氣：丙酮、異丙醇、乙酸丁酯等

酸堿廢氣：HF、H₃PO?、H₂SO?霧等

毒性氣體：砷化氫、磷化氫等（需特殊處理）

二、半導體廢氣處理方法主流工藝對比

行業(yè)趨勢：沸石轉輪+RTO因能耗低、適應性強，已成為半導體廠廢氣治理首選方案。

三、半導體廢氣處理案例：可迪爾上海項目實踐案例

半導體廢氣處理案例背景

半導體廠廢氣處理行業(yè)：半導體制造

地點：上海

半導體廠廢氣處理廢氣類型：

有機廢氣：風量33000m3/h，濃度200mg/m3，含丙酮、異丙醇等

酸堿廢氣：風量35000m3/h，濃度20mg/m3，含硫酸霧、氟化氫等

半導體廢氣處理方案

可迪爾針對半導體生長產線的特點，設計了“沸石轉輪吸附濃縮+RTO蓄熱燃燒”組合工藝治理有機廢氣；酸堿廢氣采用洗滌塔工藝，通過酸堿中和作用去除硫酸、磷酸、氨氣等物質，最終實現(xiàn)高效凈化和節(jié)能降耗的雙目標。

沸石吸附效率≥92%

沸石濃縮倍數(shù)：25-30倍

RTO去除率≥99%

半導體廠廢氣處理成果：

處理后的非甲烷≤20mg/m3，排放指標全面優(yōu)于國家及地方標準，目前系統(tǒng)運行穩(wěn)定高效。

三、為什么選擇可迪爾廢氣處理方案？

行業(yè)經驗：累計服務300+半導體企業(yè)，熟悉工藝廢氣特性

技術優(yōu)勢：自主研發(fā)沸石轉輪材料，耐高溫、抗?jié)裥詮?/span>

定制化設計：根據車間布局靈活配置設備，節(jié)省占地面積

智能運維：遠程監(jiān)控系統(tǒng)+定期維保服務，確保長期達標

四、結語

半導體廢氣處理需兼顧技術可行性與經濟性。通過沸石轉輪+RTO與化學洗滌塔的組合工藝，可迪爾成功實現(xiàn)上海半導體廢氣治理項目的超低排放。如需獲取半導體定制化處理方案，歡迎聯(lián)系可迪爾環(huán)保工程師團隊，我們將為您提供從檢測、設計到施工的一站式服務。